INVENSYNC Intellectual Property Group
INVENSYNC Intellectual Property Group, 1979–2025의 공개 특허 기록: 1,131 다른 사무소와 공통으로 나타난 특허 패밀리 대상: 93 고객(출원인). 로그인하면 앱의 파트너 네트워크, 선택한 출원 기간, 출원 활동, 고객 관계를 살펴볼 수 있습니다.
- 다른 사무소와 공통으로 나타난 특허 패밀리
- 1,131
- 1979–2025. 한 패밀리가 여러 번 집계될 수 있습니다.
- 활동 2016–2020
- 675
- 연간 고유 패밀리, 합산 기간: 최근 5개 완전 연도. 2021년 이후는 아직 공개 중입니다.
- 고객(출원인)
- 93
- 전체 기록 연도에 걸쳐 이 패밀리들에 나타난 출원인입니다. 전체 고객 명단은 아닙니다.
- 아래 표시된 사무소
- 3
출원 활동 추이 (2017–2026년)
- 범위
- INVENSYNC Intellectual Property Group · 한국
- 출원 연도
- 2017–2025
- 단위
- 연간 고유 패밀리
2021–2026 are preliminary. Patent filings publish about 18 months after filing, and foreign filings can enter later, so these counts are still filling in.
각 패밀리는 한 연도 내에서 한 번만 집계됩니다. 하나의 패밀리가 여러 해에 중복 나타날 수 있습니다.
연간 건수 보기
| 연도 | 연간 고유 패밀리 |
|---|---|
| 2017 | 75 |
| 2018 | 162 |
| 2019 | 182 |
| 2020 | 188 |
| 2021 · preliminary | 115 |
| 2022 · preliminary | 95 |
| 2023 · preliminary | 75 |
| 2024 · preliminary | 44 |
| 2025 · preliminary | 2 |
집중하는 기술 분야
이 사무소의 특허 패밀리 비중이 한국 사무소 평균을 크게 웃도는 분야, 2018–2022년.
| 분야 | 패밀리 비중 | 한국 평균 대비 |
|---|---|---|
| Coating metallic material; coating material with metallic material; surface treatment of metallic material by diffusion into the surface, by chemical conversion or substitution; coating by vacuum evaporation, by sputtering, by ion implantation or by chemical vapour deposition, in generalIPC/CPC C23C | 26.4% | 8.0× |
| Semiconductor devices not covered by class H10IPC/CPC H01L | 54.1% | 5.9× |
| Generic packages, interconnections, connectors or other constructional details of devices covered by class H10IPC/CPC H10W | 9.9% | 4.4× |
| Wireless communication networksIPC/CPC H04W | 12.7% | 1.6× |
2018–2022년 연도별 건수 합산: 패밀리 888개 중 527개에 IPC 또는 CPC 분류가 있습니다. 비율은 분류된 패밀리 기준이며, 하나의 패밀리가 여러 분야에 속할 수 있습니다.
자주 연관된 사무소
같은 특허 패밀리에 가장 자주 함께 나타나는 사무소입니다. 하나의 패밀리가 여러 번 집계될 수 있어 고유 합계가 아닙니다.
유사한 한국 사무소
1990년 이후 연도별 건수의 합계입니다. 한 패밀리가 여러 번 집계될 수 있습니다.
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INVENSYNC Intellectual Property Group 나란히 비교 대상
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출원 활동
선택한 출원 연도에 기록된 특허 패밀리입니다.
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명시된 고객
출원 교류 건수에 반영된 출원인 관계입니다.